Instrument Information

儀器資訊

預約
  • 校內單位 1,000元/2hrs +10元/min
  • 校外學術單位 1,200元/2hrs +12元/min
  • 校外非學術單位 1,600元/2hrs +15元/min
  • 中文名稱: 超高真空磁控濺鍍系統
  • 英文名稱 UHV magnetron sputtering system
  • 廠牌及型號 聚昌科技股份有限公司
  • 重要規格 1. 3 UHV cathodes
    2. 1 RF POWER SUPPLY (300W), 1 DC POWER SUPPLY (500W)
    3. GROWTH TEMPERATURE: R.T.~ 900℃
  • 廠商連結
  • 開放時段
  • 系所單位 應用物理學系
  • 放置地點 理工二514-1 磁性半導體實驗室II
  • 服務項目 1. RF濺鍍成長氧化物薄膜（成長溫度最高700°C）
    2. DC濺鍍成長金屬薄膜（成長溫度最高700°C）

    其他注意事項：
    1. 更換靶材：500元/次 (請自備2吋靶材)
    2. 自備基板：圓形直徑2吋。
    3. 每次可鍍兩層氧化物薄膜與一層金屬薄膜。
    4. 試片及靶材寄送：郵局報價為準。
  • 儀器管理員 胡裕民
  • 聯絡電話 7468
  • Email ymhu@nuk.edu.tw
  • 其他 不可自行操作
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